設備名稱 :等離子增強化學氣相沉積PECVD 
品牌型號: SAMCO PD-220NL 

設備用途
主要用于二氧化硅和氮化硅介質膜沉積

主要技術指標：
氣體：SIH4 CF4 PN2 NH3 N20 O2
沉積速率：> 30nm/min
均勻性：片內小于±5%，片間小于±5%，批次小于±5%

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